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师资队伍
姓名:张冬利性别:先生
学位:博士职称:副教授
所在部门:微电子工程系电子邮件:dongli_zhang@suda.edu.cn
个人主页:

张冬利,2002年毕业于吉林大学电子工程系获学士学位,2008年毕业于香港科技大学电机及电子工程系获哲学博士学位,2008-2012年于香港科技大学电机及电子工程系从事博士后研究工作,2012年底加入苏州大学电子信息学院。

研究领域

1.新型半导体器件的设计与制造
2.半导体器件的测试分析和模拟
3.新型平板显示技术

科研项目

1. 国家自然科学基金青年项目:新型无结(Junctionless)多晶硅薄膜晶体管的研及其关键问题的研究。
2. 江苏省自然科学基金青年项目:新型高电流驱动能力多晶硅薄膜晶体管的研制。
3. 苏州市科技局项目:面向新型AMOLED显示的高可靠性TFT器件设计和研究。

代表性科研成果

论文:

1. Dongli Zhang, Mingxiang Wang, Huaisheng Wang, and Qi Shan, “Investigations on the Gate-Induced Drain Leakage Current of Polycrystalline-Silicon Thin-Film Transistor and Its Suppression With Drain Bias Sweep,” IEEE Transactions on Electron Devices, vol.63(4), pp.1572-1577, Mar. 2016.
2. Dongli Zhang, Mingxiang Wang and Kai Sun, “Low Frequency Noise Characterization and Signal-to-Noise Ratio Optimization for Silicon Hall Cross Sensors,” IEEE Journal of Electron Devices Society, vol.3(4), pp.365-370, July 2015.
3. Dongli Zhang, Mingxiang Wang and Xiaowei Lu, “Two-stage degradation of p-type polycrystalline silicon thin-film transistors under dynamic positive bias temperature stress,” IEEE Transactions on Electron Devices, vol.61(11), pp.3751-3756, Nov. 2014.

专利:

1.专利号: US8222646B2, Man Wong, Hoi-Sing Kwok and Dongli Zhang, “Thin-film transistors with metal source and drain and methods of fabrication”.
2.专利号: US8088676B2, Man Wong, Hoi-Sing Kwok, Zhiguo Meng, Dongli Zhang, and Xuejie Shi, “Metal-induced crystallization of amorphous silicon, polycrystalline silicon thin films produced thereby and thin film transistors produced therefrom”.
 

 

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